연구업적

논문 (최근 3년간의 실적)

테이블 이름 - 년도 및 제목
년도 제목
2021-10-25 In-situ process monitoring for eco-friendly chemical vapor deposition chamber cleaning
2021-10-18 Fabrication of Planar Heating Chuck Using Nichrome Thin Film as Heating Element for PECVD Equipment
2021-08-27 Dual-Frequency RF Impedance Matching Circuits for Semiconductor Plasma Etch Equipment
2021-08-01 Use of Plasma Information in Machine Learning-based Fault Detection and Classification for Advanced Equipment Control
2021-06-30 극저온 식각 장비용 웨이퍼 척의 냉각수로 설계연구
2021-06-30 극저온 식각장비용 정전척 쿨링 패스 온도 분포 해석
2021-06-30 Mask R-CNN을 이용한 BGA Solder Void 검사
2021-05-05 Hardware Design for Cryogenic Etching Equipment
2021-04-21 Machine learning-based virtual metrology on film thickness in amorphous carbon layer deposition process
2021-04-15 Artificial Immune System for Fault Detection and Classification of Semiconductor Equipment
2021-02-28 Surface Analysis of TMCTS-Based SiOC(H) Low-k Dielectrics in Post-Etch Strip of ACL Hardmask
2021-01-27 4차 산업혁명과 제조(Smart Factory)분야의 인공지능(AI) 적용사례 소개
2021-01-27 Dry Etch Characterization on Plastic Flame Sprayed Yttrium Oxy-fluoride Liner
2021-01-18 Surface Analysis of Chamber Coating Materials
2021-01-15 Surface Analysis of Amorphous Carbon Thin Film for Etch Hard Mask
2020-12-01 준지도학습 기반 반도체 공정 이상 상태 감지 및 분류
2020-11-16 Deep Neural Network Modeling of Multiple Oxide/Nitride Deposited Dielectric Films for 3D-NAND Flash
2020-09-28 Understanding of RF Impedance Matching System Using VI-Probe
2020-06-30 실리콘 웨이퍼 습식 식각장치 설계 및 공정개발
2020-04-27 In situ monitoring of plasma ignition step in capacitively coupled plasma systems
2020-04-21 Planar heating chuck to improve temperature uniformity of plasma processing equipment
2019-12-01 반도체 장비상태 모니터링을 위한 SCADA 시스템 구현
2019-06-01 Modeling with Thin Film Thickness using Machine Learning
2019-06-01 공정 조건에 따른 비정질 탄소막 표면 물성분석
2019-05-01 Performance Evaluation of RF Generators with In-Situ Plasma Process Monitoring Sensors
2019-03-28 An in situ monitoring method for PECVD process equipment condition
2019-03-01 Analysis of Optical Plasma Monitoring in Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Process of Al2O3
2019-03-01 공산품 안전인증에 대한 소비자 태도, 공산품 안전인증 효과에 대한 소비자인식, 공산품안전인증에 대한 소비자 신뢰 분석
2019-02-09 Surface coupling of plasma optical emission spectra with bent metal-clad waveguide

상훈 (최근 3년간의 실적)

테이블 이름 - 년도 및 제목
년도 제목
2020-08-21 2019학년도 학술상

연구수탁 (최근 3년간의 실적)

테이블 이름 - 년도 및 제목
년도 제목
2021-07-12 장비활용실험용역
2021-06-25 [RCMS]반도체 산업 AI융합인재양성(5-1차년도)
2021-06-04 인공면역체계를 이용한 반도체공정진단기술
2021-03-01 [RCMS]산학프로젝트 기반 반도체소재부품장비기술 전문인력양성(5-3차년도)
2021-01-01 [RCMS]시스템 반도체 제조용 PVD Sputter 정전척(ESC) 개발(3-2차년도)
2021-01-01 [RCMS]ALD 공정 생산성 향상을 위한 부산물처리用 高용량(기존 대비 2배 이상) 플라즈마 배기 처리 시스템 개발(4-2차년도)
2021-01-01 [RCMS] 200단급 이상 3D NAND용 Oxide 및 Nitride 증착장비 개발(4-2차년도)
2020-07-02 [RCMS] 200단급 이상 3D NAND용 Oxide 및 Nitride 증착장비 개발(4-1차년도)
2020-06-09 반도체 테스트베드 구축 기본구상 연구용역
2020-06-01 [RCMS]시스템 반도체 제조용 PVD Sputter 정전척(ESC) 개발(3-1차년도)
2020-05-19 [RCMS]ALD 공정 생산성 향상을 위한 부산물처리用 高용량(기존 대비 2배 이상) 플라즈마 배기 처리 시스템 개발(4-1차년도)
2020-03-01 [RCMS]산학프로젝트 기반 반도체소재부품장비기술 전문인력양성(5-2차년도)
2020-03-01 [RCMS]스마트 예지 정비 기능의 반도체 공정 장비 제어 기술 개발(3-2차년도)
2020-03-01 [5-4차년도]사회맞춤형 산학협력 선도대학(LINC+)육성사업(사회맞춤형 학과 중점형)
2020-03-01 스마트 예지 정비 기능의 반도체 공정 장비 제어 기술 개발(3-2차년도)
2020-01-01 [RCMS]반도체 공정 챔버 세정용 불소 가스를 사용하지 않는 플라즈마 처리 시스템 개발[4-4차년도]
2019-10-01 [RCMS]차세대 반도체 소재·부품·장비 글로벌 경쟁력 선도를 위한 재직자교육사업
2019-09-20 [RCMS]스마트 예지 정비 기능의 반도체 공정 장비 제어 기술 개발(3-1차년도)
2019-09-20 스마트 예지 정비 기능의 반도체 공정 장비 제어 기술 개발(3-1차년도)
2019-08-05 [RCMS]반도체 인프라를 활용한 수요 맞춤형 플랫폼 구축
2019-04-19 [RCMS]산학프로젝트 기반 반도체소재부품장비기술 전문인력양성(5-1차년도)
2019-04-15 [5-3차년도]사회맞춤형 산학협력 선도대학(LINC+)육성사업(사회맞춤형 학과 중점형)

지적재산권 (최근 3년간의 실적)

테이블 이름 - 년도 및 제목
년도 제목
2021-08-17 장비 데이터를 이용하는 플라즈마 공정 진단 시스템 및 방법
2020-11-02 실리콘 웨이퍼 습식 식각 장치 및 이의 조립 공정
2019-09-02 신호 감지 거리 조절이 가능한 알에프 파워 센서 및 구조체
2019-03-22 3차원 마이크로 링 공진기

학술대회발표 (최근 3년간의 실적)

테이블 이름 - 년도 및 제목
년도 제목
2021-11-18 정전척 후면가스 압력에 따른 웨이퍼의 열적 특성 수치해석
2021-11-18 Forming TiO2 By-Product in Plasma Abatement System for the Extension of Preventive Maintenance Period
2021-11-18 인공면역체계를 이용한 플라즈마 증착 장비의 유량조절기 오류 검출 알고리즘 연구
2021-01-18 Kinetic Mechanism of Reactive Oxygen/Nitrogen Species for Plasma Assisted Greenhouse Gas Replacement
2021-01-18 Surface Analysis of Low-k Dielectrics after Amorphous Carbon Layer Strip Process
2021-01-18 Effect of Hard Mask Deposition/Strip Process Temperature on SiOH Low-k Dielectric Film
2021-01-18 In-Situ Optical Monitoring of Atmospheric Pressure Glow Discharge Plasma in Organic Surface Cleaning
2020-02-11 Applying Adaptive Boosting for Fault Detection and Classification in Semiconductor Process Equipment
2019-11-22 In-situ Monitoring of Plasma Ignition Steps in Capacitively Coupled Plasma System
2019-11-22 Planar Heating Chuck to Improve Temperature Uniformity of Plasma Processing Equipment
2019-11-22 In-situ Process Monitoring for Eco-friendly Chemical Vapor Deposition Chamber Cleaning
2019-11-06 Surface Properties of Amorphous Carbon Thin Film for Dry Etch Hard Mask
2019-11-06 Surface Properties of Amorphous Carbon Thin Film for Dry Etch Hard Mask
2019-10-20 Virtual Metrology on Thin Film Deposition Process for Semiconductor Fabrication
2019-08-14 식각장비의 GDP 표면의 절연체 두꼐에 따른 영향성 해석
2019-08-14 유연기판 균일 압력을 위한 곡면설계
2019-08-14 RF 임피던스 정합장치 연구
2019-08-14 Chamber 내부 Coating 물질별 내 플라즈마 저항 특성연구
2019-05-09 머신 러닝을 사용한 비정질 탄소막 두께 모델링
2019-05-09 실시간 웨이퍼 온도 측정 및 분석 소프트웨어 개발
2019-05-09 O2, H2, Ar 가스를 이용한 비정질 탄소막 챔버 세정 공정 모니터링
2019-05-09 초박막 실리콘 산화막 경도 예측
2019-05-09 OPM 센서를 사용한 Ashing 공정 모니터링
2019-05-09 전기적 및 광학적 진단 센서를 사용한 PECVD 장비 건전성 평가
2019-05-09 공정 조건에 따른 비정질 탄소막 표면 물성 분석
2019-05-09 정전척 표면 구조에 따른 온도 균일도 분석
2019-05-09 기업체 현장경험을 통한 취업역량 향상에 관한 연구
2019-05-09 반도체 장비 제어를 위한 PLC 활용 SCADA 시스템 구축
2019-05-09 챔버 내벽 보호를 위한 대체 코팅 물질 분석
2019-05-09 샤워헤드 구조 변경에 따른 웨이퍼 표면의 가스 속도 시뮬레이션
2019-05-09 비정질 탄소막 증착 공정에서의 가상 계측 모델링